荷蘭輸精光了，中國首臺EUV光刻機運行，64億資產(chǎn)撤離，穩(wěn)賺不賠（資料來自網(wǎng)絡《御史流芳》）2025/12/21彭亮文（謝絕獻花） <p class="ql-block"><b style="color:rgb(237, 35, 8);">?——【·前言·】——?</b></p><p class="ql-block"><b>荷蘭沒想到，中國居然造出首臺EUV光刻機原型，距離攻克這一難題還有多遠？中企出售64億海外資產(chǎn)，為什么要將戰(zhàn)略重心轉(zhuǎn)回國內(nèi)？</b></p> <p class="ql-block"><b style="color:rgb(237, 35, 8);">?——【·西方斷言成笑柄·】——?</b></p><p class="ql-block"><b style="color:rgb(237, 35, 8);">在高端半導體制造的賽道上，荷蘭阿斯麥（ASML）公司的極紫外光刻機（EUV），曾長期被視作一座讓全球企業(yè)望而卻步的技術高峰。</b></p> <p class="ql-block"><b>這款被稱作“科技皇冠上的明珠”的設備，憑借獨家壟斷的核心技術，讓阿斯麥在全球光刻機市場占據(jù)絕對主導地位，無數(shù)西方媒體和行業(yè)專家甚至公開放言，就算把EUV光刻機的完整圖紙擺在中國面前，中國科研團隊也根本造不出來。</b></p><p class="ql-block"><b>然而現(xiàn)實終究給了這些傲慢的斷言沉重一擊。路透社此前披露的一則消息，徹底打破了全球半導體行業(yè)的平靜。</b></p> <p class="ql-block"><b>中國科研團隊在深圳的實驗室里，成功打造出了一臺EUV原型機，這臺原型機于年初完成制造，目前已進入測試階段，并且順利產(chǎn)生了極紫外光。</b></p><p class="ql-block"><b style="color:rgb(237, 35, 8);">?——【·64億資產(chǎn)撤離背后·】——?</b></p><p class="ql-block"><b style="color:rgb(237, 35, 8);">就在中國EUV原型機傳來捷報的同時，荷蘭阿斯麥的中國市場布局正悄然發(fā)生劇變，高達64億歐元的資產(chǎn)正逐步撤離中國市場。要搞懂這波資產(chǎn)撤離的背后邏輯，就不得不提阿斯麥此前在中國市場的“甜蜜時光”。</b></p> <p class="ql-block"><b>數(shù)據(jù)顯示，2023年之前，中國市場在阿斯麥全球銷售額中的占比僅為15%，但隨著美國出口管制政策的不斷升級，荷蘭政府也跟進收緊相關出口規(guī)則，中國相關企業(yè)掀起了一波光刻機囤貨潮，能買到的深紫外光刻機（DUV）被一掃而空，這直接讓阿斯麥的短期訂單量飆升。</b></p><p class="ql-block"><b>2023年，中國市場占比直接飆升至29%，銷售額超過64億歐元，2024年更是進一步突破36%，中國一度成為阿斯麥的第一大市場，采購額占其系統(tǒng)設備銷售收入的41%，超過了美國與韓國兩大市場的總和。</b></p> <p class="ql-block"><b>阿斯麥高層其實早已知曉，這種繁榮只是“最后的狂歡”。2023年9月起，荷蘭政府要求先進浸潤式DUV機型出口需申請許可；2024年，美國進一步升級規(guī)則，直接撤銷了部分機型的出口許可，導致NXT:2050i等關鍵機型無法對華發(fā)貨。</b></p> <p class="ql-block"><b>在這樣的政策背景下，阿斯麥不得不悲觀預測，2025年中國市場占比將降至20%，2026年還會持續(xù)下滑。此次64億資產(chǎn)的撤離，本質(zhì)上就是阿斯麥在出口管制政策壓力下，對中國市場的無奈收縮，曾經(jīng)的“搖錢樹”如今已變成難以維系的“包袱”。</b></p><p class="ql-block"><b style="color:rgb(237, 35, 8);">?——【·不硬磕單機壟斷·】——?</b></p><p class="ql-block"><b style="color:rgb(237, 35, 8);">很多人會好奇，中國為何能在阿斯麥的技術封鎖下實現(xiàn)EUV技術的突破？答案很簡單，中國科研團隊沒有選擇硬磕單機壟斷的死胡同，而是發(fā)揮系統(tǒng)集成優(yōu)勢，走出了一條換道超車的全新路徑。</b></p> <p class="ql-block"><b>要知道，傳統(tǒng)EUV光刻機的核心是小型化光源，經(jīng)過阿斯麥幾十年的技術積累，相關專利壁壘厚重如山，短期內(nèi)直接復制幾乎不可能。</b></p><p class="ql-block"><b>清華大學科研團隊從2017年就開始攻關SSMB-EUV方案，這套方案的核心思路堪稱天才構(gòu)想：用大環(huán)形儲存環(huán)產(chǎn)生高功率極紫外光，再通過光束線分配給幾十臺曝光站同時使用，相當于建造一座“光刻電站”，從根源上解決了單機光源功率不足的痛點。</b></p> <p class="ql-block"><b>這條全新路線的進展遠超外界預期。2021年，清華團隊與德國合作在《Nature》發(fā)表原理驗證，證明激光能精確操控電子束產(chǎn)生相干輻射；2022年的技術綜述就顯示，該方案的光源功率能突破千瓦級，遠超阿斯麥單機250瓦的上限。</b></p>